工业生产（如光电、半导体、等）过程中，洁净室内存在许多潜在污染源，

其中最大的威胁也是最易受到控制的即是人员污染因素.

人在洁净室活动中会产生大量的尘粒，包括：1、活性尘粒：如细菌和酵母等；2、非活性尘粒：如头发、皮屑等；3、化学物质：如钠、钾、氯化物和镁等。

目前最为有效的方法就是通过洁净室工作服隔离清洗来捕捉并带走尘粒，使污染物不散布到洁净室环境中，以减少人员对洁净室环境的污染。

作为污染控制的重要手段，洁净服的清洁程度要求是非常高的。因为在普通的环境下清洗，会附着灰尘和细菌，以及受到水及洗净剂的二次污染。同时，在包装和运送过程也会增加附着灰尘及微生物的危险，所以洁净工作服清洗必须采用特殊的清洗方法——无尘隔离清洗。